伯东企业（上海）有限公司
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因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
KRI Ion Source 应用X域：
无栅极等离子源技术
----End-Hall 离子/等离子源
有栅极离子源技术
----RFICP 离子源
----DC 离子源
电子源技术
----灯丝
----中空阴极 (Hollow cathode)
----等离子中和器
单机应用
----直流电源 (DC power)
----射频电源 (RF power)
有多个模组组成，模组的特性取决于功率、频率、电压、电流和控制方式，大多数模组都满足 CE 和 CoHS 标准。
监控：监视器
稳定输出：设置的XX化
状态诊断：用户直接获取
参数存储：准确保存
连续性和稳定性
功率控制器能够在紧急情况下比如载入高能量的等离子体、短路、电流过冲、电压过冲和功率过冲的情况，实现保护功能。确保在运行沉积和刻蚀工艺时进行不间断的操作。通过数显的面板，可以即时观测和控制工艺参数和状态资讯。
KRI Individual Power Supply Controller X立的功率控制器
功率控制器可以单X使用也可以集成到其它功率包中，能提供直流、交流和射频功率。
AC Power 交流电源
交流电源输出一个低频的直流信号，适用于低阻抗负载，比如驱动类似于灯丝这样的发热原件，通过大的功率加热灯丝到发射热电子的温度。
交流电源比直流电源更有利于灯丝寿命的延长
软起功能有助于平稳的提高灯丝温度从冷起到电子发射的温度
型号：
FC 1000
FC 1006
DC Power 直流电源
直流电源通常应有在等离子体辉光放电、偏压和离子加速。可提供几千瓦的输出功率，电压范围 80~1000 V。典型应用是用于离子、等离子和电子源的电极和衬底偏压。
对阳极施以电压点燃和维持等离子放电
对等离子施以偏压去定量离子能量
对离子光栅施以偏压去扑捉和加速离子
对阴极施以电压获得电子流
输出的电压、电流和调节模式可选，可更具需要选择输出值像等离子电位、离子能量、电子流和离子轨道等参数。
RF Power 射频电源
射频电源产生一个射频信号，适用于低阻抗的电磁负载，典型应用是驱动射频天线将能量辐射进等离子腔室。通过感应耦合的方式射频功率产生和维持一个高密度的等离子。通过自动阻抗匹配使功率大的传输XX化，此外设计上使电容耦合和功率衰减X小化。
型号：
RF 1000
RF 1500
气体控制器：
KRI 气体控制器提供功率和控制多路品质流量计，能够使用于不同的气体和气体混合物，而且可以和几乎所有的不同制造商的模组相容，数字显示模式。使用者可以自行设置流量并有存储功能。
型号： GC 1000
自动系统控制器：
是一个可程式设计的单元，能集成到电源模组中去提供完美的功率控制。该控制器采用X有的通信协定与功率模组进行快捷的通信，实现控制功能。
它能够自动选择XX的模式去校准等离子负载，达到X稳定的状态，同时可以选择回馈模式。能存储多个工艺程序，同时控制多个 MFC。
自动系统控制器：
是一个可程式设计的单元，能集成到电源模组中去提供完美的功率控制。该控制器采用X有的通信协定与功率模组进行快捷的通信，实现控制功能。
它能够自动选择XX的模式去校准等离子负载，达到X稳定的状态，同时可以选择回馈模式。能存储多个工艺程序，同时控制多个MFC。
KRI Integrated Power Pack Controller 电源模组集成包
电源模组集成包有X立的电源模组衍生而来，因为 KRI 的X立电源模组是一种标准的模组，所以这些模组能够容易的集成到自动、多功能的功率包中。集成包是一个强有力的工具，能够简化等离子、离子和电子源的操作，X大的X点是可以方便的实现功率控制的XX化。
当经常应用在如下的场合：
1. 工艺工程师想实现宽范围的工艺设计和X化，渴望确保参数的重复性，工艺可控
2. 生产经理想实现一个简单的命令操作，使工艺参数快速稳定
3. OEM 想实现高的集成度从而降低成本
4. 从事薄膜表面和纳米结构的科研工作者想实现灵活、X的工艺控制
eH Plasma Power Pack Controller---eH 等离子功率集成包
eH 等离子功率集成包用于驱动 end-Hall 离子源，它由电子发射模组、等离子放电模组和自动系统控制模组组成，结构紧凑、重量轻便。适用于材料工艺中要求高效、稳定和X的电子或离子源的功率控制。
它能给 end-Hall 等离子源的阳极或阴极提供功率，使用者可根据需要设置阳极的离子密度和离子能量，同样的使用者也可以界定阴极的电子流参数。eH Plasma Power Pack 能够跟踪离子流，自动发射电子确保电中性。
eH Plasma Power Pack 有自我保护功能，同时它是一个快速反应的功率源，可以在几秒钟内点火产生等离子，并在几秒钟内使离子束达到稳定。可以存储多个工艺程序、控制多个MFC确保对多种气体和气体混合物的X控制。
使用者能容易的设置各种参数和模式、状态，面版上会显示出设定值、运行值、功能表存储资讯和工作状态资讯。
KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射频感应耦合等离子功率集成包
RFICP Ion Power Pack Controller 用于驱动有栅极离子源，由中和器模组、放电模组、偏压模组和加速模组组成，这些模组集成在一个 19” 的集成包中。
RFICP Ion Power Pack Controller 给离子源的射频线圈、离子光学和中和器提供电源，将射频功率耦合到辉光放电腔室，产生高密度的等离子体。配有自动阻抗适配器实现XX化，用户可以选择离子能量和离子密度来满足工艺的要求。广泛用于沉积和刻蚀工艺中。
射频的额定功率 0.5 KW 或更高，中和器的额定功率 0.5 A 或更高。
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经40 年改良及发展已取得多项X. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD X域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论,请联络上海伯东邓女士,分机134
